真空爐
瀏覽量:
0
支架
零售價
0.0
元
市場價
0.0
元
瀏覽量:
0
產(chǎn)品編號
數(shù)量
-
+
庫存:
0
產(chǎn)品描述
參數(shù)
金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)
金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積(簡稱MOCVD)是技術(shù)生長III-V族,II-VI族化合物及合金的薄層單晶的主要方法。用氫氣或氮?dú)庾鳛檩d氣,通入液體中攜帶出蒸汽,與V族的氫化物(如NH3、PH3、AsH3)混合,通入反應(yīng)室,在加熱的襯底表面發(fā)生反應(yīng),外延生長化合物晶體薄膜。
LED的發(fā)光核心是一種稱為外延片(Epitaxial Slice)的復(fù)合材料,由于Mocvd技術(shù)在外延片上的成功運(yùn)用,使得此種設(shè)備使用量迅速增加。
由于MOCVD設(shè)備工作時工作溫度高于2000℃,鎢鉬也是該設(shè)備部分組件的首選材料。
關(guān)鍵詞:
支架
mocvd
設(shè)備
外延
沉積
技術(shù)
化合物
金屬
生長
反應(yīng)
未找到相應(yīng)參數(shù)組,請于后臺屬性模板中添加
上一個
無
下一個
發(fā)熱體
推薦新聞
關(guān)注官方手機(jī)站
更多精彩等著你!
產(chǎn)品搜索:
搜索
搜索
版權(quán)所有:? 2021 寶雞市宏佳有色金屬加工有限公司 陜ICP備20008401號-3 網(wǎng)站建設(shè):中企動力 西安